Grupo de NEMS y Nanofabricación (NANONEMS)

Se basan en i) técnicas top-down (litografías avanzadas, litografía por haz de electrones, haz de iones enfocado, litografía por nanoimpresión) y ii) técnicas bottom-up (autoensamblaje dirigido de copolímeros de bloque), junto con procesos de depósito y grabado de materiales. El objetivo es conseguir salvar la brecha que existe actualmente entre los procesos de nanofabricación a nivel de prototipo  y la tecnología requerida para su aplicación en líneas piloto en  micro / nano electrónica.

Estudio  de dispositivos nanoelectrónicos y de sus aplicaciones como elementos de circuito y como sensores. En los últimos años la actividad se había enfocado al desarrollo de  de dispositivos  de un solo electrón (single-electron transistor, SET) para sistemas electrónicos miniaturizados con muy bajo consumo de energía.  Sobre esta base, la actividad actual se orienta al desarrollo de tecnologías para la fabricación de qubits de spin basados en silicio para computación cuántica. En el campo de los dispositivos sensores, continuará la colaboración existente con grupos de investigación externos en el campo de la integración de micro y nanodispositivos sensores para aplicaciones en biomedicina.

Estudio de NEMS, típicamente  puentes o vigas en voladizo (cantilevers), y específicamente desarrollo de métodos de fabricación,  de transducción, integración en sistemas y aplicaciones.

Se mantiene una cierta actividad en el desarrollo de métodos avanzados de caracterización mediante AFM.  El objetivo es disponer de métodos para la obtención de información sobre propiedades funcionales a escala nanométrica, necesarios para la investigación que se realiza en el grupo y para  colaboraciones con otros grupos de investigación e industrias.