IMB-CNM Talks: Photolithography area: present & future (2024-2026)
By Javier Sánchez López (Photolithography Area of the Micro and Nanofabrication Clean Room)
This presentation is organized within a series of talks about the Micro and Nanofabrication Clean Room and its areas. #ICTSnews
Get in touch with us for the link: cultura@imb-cnm.csic.es.
About the talk
Se presentará el actual área de fotolitografía con sus equipos y procesos,así como las resinas y reveladores utilizados y las etapas que corresponden a los diferentes procesos. Además se comentarán los planes de futuro del área,que se centrarán en la adquisición de nuevos equipos a través del PERTE chip y otros proyectos.
About the speaker
Javier Sánchez es el responsable del área de fotolitografía de la ICTS Clean-Room del IMB-CNM-CSIC desde el año 2012. Como responsable del área se encarga del desarrollo y optimización de procesos de litografía óptica a través de la puesta a punto de nuevas resinas y polímeros como la búsqueda de equipos para futuras lineas tecnológicas. El personal del área esta formado por dos técnicos de operaciones, más dos ingenieros de proceso especializados en los equipos de Stepper y Laser Writer. Además, realiza la formación a usuarios (la mayoría estudiantes de doctorado y/o Post-doc) para realizar el autoservicio cualificado en equipos destinados a ese uso para que puedan optimizar sus propios procesos. Se encarga además de la supervisión previa (verificación) de las etapas de los procesos que se llevan a cabo en la Sala Blanca.